Projekt 22413/01

Entwicklung eines Verfahrens zur Reinigung von Anlagen zur Erzeugung von Kunststoffprodukten

ProjekttrÀger

Chemie X 2000 Schrupstock GmbH & Co. KG
Schlosserstr. 15
42899 Remscheid
Telefon: 02191/9444-37

Zielsetzung und Anlass des Vorhabens

Die Reinigung von Chemieanlagen ist hĂ€ufig mit sehr hohem Aufwand, langen Stillstandzeiten und erheblichem Risiko fĂŒr die Umwelt und das beteiligte Personal verbunden. Im vorliegenden Fall sollte die Reinigung von Kolonnen und WĂ€rmetauschern von AcrylsĂ€ure-, Acrylnitril- und Butadienanlagen verbessert werden. Hierzu wurde eine umweltvertrĂ€gliche Waschlösung und ein Reinigungsverfahren entwickelt.


Darstellung der Arbeitsschritte und der angewandten MethodenDie folgenden Arbeitsschritte wurden durchgefĂŒhrt:
- Laboruntersuchungen
In den Laboruntersuchungen wurden zunĂ€chst geeignete Waschlösungen entwickelt. Dazu wurden RĂŒckstĂ€nde aus den zu reinigenden Anlagen untersucht aufgelöst.
- Versuchsanlage
Es wurde eine Versuchsanlage im kleinen Maßstab gebaut, mit deren Hilfe die Laboruntersuchungen fortgefĂŒhrt wurden. Die Versuche endeten positiv.
- Verfahrensentwicklung
Aufbauend auf den Ergebnissen der Laboruntersuchungen erfolgte die Verfahrensentwicklung. Diese betraf sowohl die Reinigungsmethode insbesondere zur ZugÀnglichkeit komplizierter Einbauten, als auch die Entsorgbarkeit und Anlagensicherheit.
- Betrieb einer Modellanlage
Die bisherigen Entwicklungsergebnisse wurden an einer Modellanlage erprobt. Hierzu wurde die Modellanlage an einer realen Anlagen betrieben.
- Prototypbau und Erprobung
Mit dem Bau eines Prototypen und dessen Erprobung endet das Vorhaben. Das Reinigungsverfahren wird mittlerweile erfolgreich angewendet.


Ergebnisse und Diskussion

Im Rahmen des Vorhabens wurde eine Waschlösung gefunden, mit deren Hilfe das bisherige Verfahren des Reinigens der betroffenen Anlagen mit Kohlenwasserstoffen und unter hohen Schutzanforderungen arbeitenden HilfskrÀften ersetzt werden konnte. Die Risiken der Reinigung und die GefÀhrdung der Umwelt werden durch das neue Verfahren erheblich herabgesetzt.

Versuche wurden an folgenden chemischen Produktionsanlagen erfolgreich durchgefĂŒhrt:

BASF Ludwigshafen
- Butadienanlage
- AcrylsÀureanlage
- Polyvinylpyrlidonanlage

Elastogran Lemförde
- Polyurethananlage

Wacker Chemie
- Polyvinylacetatanlage

Dabei wurden je nach Anlagentyp angepasste Varianten der Waschlösung eingesetzt. Die Kosten des Verfahrens liegen insbesondere auf Grund erheblich verkĂŒrzter Stillstandszeiten der Anlagen deutlich unter den bisherigen Kosten einer Reinigung. ZusĂ€tzlich sind die Belastungen und Risiken fĂŒr Reinigungspersonal und Umwelt erheblich verringert.


Öffentlichkeitsarbeit und PrĂ€sentation

Es sind Veröffentlichungen in den einschlÀgigen Fachzeitschriften vorgesehen. ZusÀtzlich wird das Verfahren auf Messen und Kongressen vorgestellt.


Fazit

Mit der erfolgreichen Entwicklung des Reinigungsverfahrens konnte ein bisher umweltbelastendes Vorgehen bei der Reinigung der Chemieanlagen erheblich verbessert werden. Neben erheblicher Zeiteinsparung ist der Vorteil entstanden, dass keine Emissionen aus den Anlagen die Umwelt belasten, ein Vorteil fĂŒr DIN / ISO 14001.
FĂŒr die Chemie X 2000 wurde damit ein weiterer Markt sowohl fĂŒr die Reinigungsprodukte, als auch fĂŒr die DurchfĂŒhrung der Reinigung eröffnet.

Übersicht

Fördersumme

115.000,00 €

Förderzeitraum

10.01.2005 - 10.09.2006

Internet

www.chemiex2000.de

Bundesland

Nordrhein-Westfalen

Schlagwörter

Klimaschutz
Umweltforschung
Umwelttechnik