Kristalline Silicium-D\u00fcnnschichtsolarzellenDer Gro\u00dfteil der gegenw\u00e4rtig industriell gefertigten Photovoltaikmodule verwendet Solarzellen, die aus kristallinen Siliciumscheiben (Wafern) hergestellt werden. Dabei entfallen gut 40% der Modulkosten allein auf die Siliciumscheiben. Hier setzen D\u00fcnnschichttechnologien an. Dadurch, dass ein kosteng\u00fcnstiges Substrat f\u00fcr die mechanische Stabilit\u00e4t der Solarzelle sorgt, kann die Dicke der teuren Absorberschicht auf das physikalisch notwendige Minimum reduziert werden.Diese Arbeit befasst sich mit der Entwicklung einer D\u00fcnnschichtsolarzelle aus kristallinem Silicium. Auf ein Substrat aus Keramik oder metallurgischem Silicium wird eine d\u00fcnne Siliciumabsorberschicht mittels Chemical Vapor Deposition (CVD) aus der Gasphase aufgebracht. Durch den anschlie\u00dfenden Zonenschmelzprozess (Zone-Melting Recrystallization, ZMR) erh\u00e4lt die Siliciumschicht eine gro\u00dfk\u00f6rnige Struktur. Dieser Schritt ist entscheidend f\u00fcr die Schichtqualit\u00e4t und damit den Wirkungsgrad der Solarzelle.Currently the majority of industrially manufactured photovoltaic modules uses solar cells made of crystalline silicon wafers. Approximately 40% of the module costs are attributed to the production of the silicon wafers. This is the starting point for thin-film technologies. While a substrate provides for the mechanical stability of the solar cell, the thickness of the expensive absorber layer can be reduced to the physically necessary minimum. This work is concerned with the development of a thin-film solar cell from crystalline silicon. On a substrate made of ceramics or metallurgical grade silicon a thin silicon absorber film is applied by Chemical Vapor Deposition (CVD). The result of the subsequent Zone-Melting Recrystallization (ZMR) process is a coarse grain structure. This step is crucial for the film quality and thus the efficiency of the solar cell.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"
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